参考观研天下发布《2016-2022年中国微电子组件制造产业现状调查及十三五投资动向研究报告》
光刻机产品长期受到国外封锁。光刻机是芯片制造的关键设备，涉及国防、通信、科研、民用等各领域集成电路芯片的生产制造。长期以来，在《瓦森纳协议》的框架下，欧美国家最先进的几代光刻机一直对华禁售。出售的光刻机也都有保留条款，禁止给国内自主CUP 做代工，即使是小批量生产用于科研和国防领域的芯片，也存在一定风险，而且在宣传上也只能含糊其辞的说明是境内流片，这很大程度上影响了中国半导体产业的发展。
如今虽然ASML 正逐渐解除对华产品的禁售，但EUV 这类的顶尖光刻机由于产能有限，订单已经排到2019 年，且优先供应台积电、三星、英特尔等客户，国内晶圆厂商短期内仍然拿不到ASML 的高端光刻机产品。
上海微电子深耕光刻机产品研发，承担多项专项科研任务。上海微电子成立于2002 年，致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的研发制造，产品包括前道光刻机、后道封装光刻机、平板显示光刻机、检测设备、搬运设备等。公司承接了光刻机国家重大科技专项，以及02专项“浸没光刻机关键技术预研项目”（通过国家验收）和“90nm光刻机样机研制”（通过了02专项专家组现场测试）任务。
公司前道光刻机实现90nm制程，封装光刻机市占率领先。目前公司光刻机产品主要包括IC前道光刻机、IC后道封装光刻机、面板前道光刻机、面板后道封装光刻机。公司最先进的IC前道光刻机已经达到90nm制程，并据传65nm制程设备正在进行整机考核。光刻机技术在90纳米是一个技术台阶，迈过90纳米很容易做到65纳米，对65纳米的进行升级就可以做到45纳米。上海微电子的光刻机产品有望在未来几年实现45nm制程产品的生产。
公司的IC后道封装光刻机可以满足各类先进封装工艺的需求，已经实现批量供货，并出口到海外市场，国内市场占有率达到80%，全球市场占有率40%；用于LED制造的投影光刻机的市场占有率也达到20%。
作为国内光刻机设备领域的领航者，上海微电子承担着国产光刻机设备的希望，若能实现光刻机设备的国产化，中国大力发展的半导体产业必将迈上一个新台阶。
光刻机产品长期受到国外封锁。光刻机是芯片制造的关键设备，涉及国防、通信、科研、民用等各领域集成电路芯片的生产制造。长期以来，在《瓦森纳协议》的框架下，欧美国家最先进的几代光刻机一直对华禁售。出售的光刻机也都有保留条款，禁止给国内自主CUP 做代工，即使是小批量生产用于科研和国防领域的芯片，也存在一定风险，而且在宣传上也只能含糊其辞的说明是境内流片，这很大程度上影响了中国半导体产业的发展。
如今虽然ASML 正逐渐解除对华产品的禁售，但EUV 这类的顶尖光刻机由于产能有限，订单已经排到2019 年，且优先供应台积电、三星、英特尔等客户，国内晶圆厂商短期内仍然拿不到ASML 的高端光刻机产品。
上海微电子深耕光刻机产品研发，承担多项专项科研任务。上海微电子成立于2002 年，致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的研发制造，产品包括前道光刻机、后道封装光刻机、平板显示光刻机、检测设备、搬运设备等。公司承接了光刻机国家重大科技专项，以及02专项“浸没光刻机关键技术预研项目”（通过国家验收）和“90nm光刻机样机研制”（通过了02专项专家组现场测试）任务。
公司前道光刻机实现90nm制程，封装光刻机市占率领先。目前公司光刻机产品主要包括IC前道光刻机、IC后道封装光刻机、面板前道光刻机、面板后道封装光刻机。公司最先进的IC前道光刻机已经达到90nm制程，并据传65nm制程设备正在进行整机考核。光刻机技术在90纳米是一个技术台阶，迈过90纳米很容易做到65纳米，对65纳米的进行升级就可以做到45纳米。上海微电子的光刻机产品有望在未来几年实现45nm制程产品的生产。
公司的IC后道封装光刻机可以满足各类先进封装工艺的需求，已经实现批量供货，并出口到海外市场，国内市场占有率达到80%，全球市场占有率40%；用于LED制造的投影光刻机的市场占有率也达到20%。
作为国内光刻机设备领域的领航者，上海微电子承担着国产光刻机设备的希望，若能实现光刻机设备的国产化，中国大力发展的半导体产业必将迈上一个新台阶。
表：上海微电子主要设备产品
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