参考观研天下发布《2016-2022年中国步进式光刻机行业发展现状及十三五发展策略分析报告》
ASML1984年成立，30年的时间即发展为光刻机领域的绝对龙头，市占率达到近80%，几乎垄断高端光刻机市场，其成长之路可谓一段传奇。ASML的龙头之路既与产业大环境密切相关，也是其自身重视研发，对研究创新始终采取开放态度的必然结果。
ASML创立初始即面对“微影双雄”两大巨头。在ASML创立之时，光刻机市场存在两大巨头——日本的尼康和佳能，被称为“微影双雄”。当时半导体产业已从美国转移至日本，发展半导体产业在日本被立为国策，其中光刻用步进机被列为“第三研究重点”，作为基础设备研究政府予以研发补贴、减税等优惠。此外，当时的日本半导体企业普遍IDM模式，极大地带动了本土半导体设备产业的发展。由于半导体行业周期性强、技术更新速度快，企业对产业中的商业和技术变化稍有迟疑，就会遭到损失。1993年，曾经的光刻机龙头美国GCA公司由于本土企业需求量减少以及技术落后，被迫退出市场，到1994年，“微影双雄”已经占据了80%的市场份额。
ASML成立之初也面临着资金短缺和技术落后的问题。半导体产业属于资金密集型产业，光刻机作为推动摩尔定律最关键的设备，研发新产品时更需要庞大的资金投入。ASML研发的第一款PAS 2000光刻机技术过时，未能贡献利润。1992年全球半导体产业滑坡，ASML资金链断裂，几近关门，幸亏菲利普及时出手援助才渡过难关。
走出困境后的ASML开始了快速的发展，而同时尼康与佳能却在走向衰落，最终在浸没式光刻机的研发上，ASML对尼康和佳能做出了致命一击，奠定了自身光刻机龙头的地位。ASML能把稳住这一关键的历史因素，具有自身特质以及时代背景两大方面的原因。
内因：ASML极其重视研发，并对研发创新始终保持开放态度。光刻机是技术含量极高的设备，厂商每年需要投入巨额的资金用于研发。ASML每年的研发投入都在营业收入的15%左右，与净利润水平基本相当，远超尼康、佳能5%-6%的研发投入，即使在互联网泡沫破裂和金融危机期间，ASML依然保持极高的研发投入。
对于研发，ASML采取大胆的外包合作和开放式创新模式，公司将众多的光刻机核心设备外包给各细分设备顶尖供应商生产，如光学部件由德国卡尔蔡司生产，计量技术装备由美国的Hewlett-Packard 制造，光源由美国的Cymer 提供。外包模式降低了ASML 的研发成本，并与供应商建立起密切的利益合作关系。而且ASML 也与供应商及全球顶尖的科研机构共同研发，共享专利，并鼓励供应商在制造过程中提出改进意见，具有极高的效率和灵活性。
相对的，尼康与佳能采取“孤岛式研发”，仅与极少数厂商进行技术合作，对于产品也秉持“一颗螺丝钉的位置都不能改”的政策，导致其产品研发越来越跟不上ASML 的脚步，售后服务也收到广大客户诟病，最终在ArF 沉浸式光刻机和F2 光刻机的对决中一败涂地，丢掉自己的龙头地位。
外因：ASML 乘上产业转移东风，把握住韩国与台湾市场。上世纪八十年代，美国对日本半导体产业的政策从最初的扶持转向抑制，1985 年《广场协议》使得日元大幅升值，日本半导体产品价格失去竞争力。1986 年、1991 年两次签订《美日半导体协议》，对日本产品进行最低价格限制，并要求日本提高国外半导体产品在国内市场所占的份额。日本半导体产业开始由盛转衰。
与此同时，韩国、台湾在政府和财团的支持下承接了半导体产业的转移，韩国的储存器产业开始崛起，台湾则出现了台积电这样的晶圆代工巨鳄。ASML 敏锐地抓住这一历史机遇，大力进入韩国、台湾市场，与各大半导体生产商保持良好地业务和合作关系。ASML 赖以登上龙头之位的浸没式光刻机产品就是与台积电共同研发的。
ASML1984年成立，30年的时间即发展为光刻机领域的绝对龙头，市占率达到近80%，几乎垄断高端光刻机市场，其成长之路可谓一段传奇。ASML的龙头之路既与产业大环境密切相关，也是其自身重视研发，对研究创新始终采取开放态度的必然结果。
ASML创立初始即面对“微影双雄”两大巨头。在ASML创立之时，光刻机市场存在两大巨头——日本的尼康和佳能，被称为“微影双雄”。当时半导体产业已从美国转移至日本，发展半导体产业在日本被立为国策，其中光刻用步进机被列为“第三研究重点”，作为基础设备研究政府予以研发补贴、减税等优惠。此外，当时的日本半导体企业普遍IDM模式，极大地带动了本土半导体设备产业的发展。由于半导体行业周期性强、技术更新速度快，企业对产业中的商业和技术变化稍有迟疑，就会遭到损失。1993年，曾经的光刻机龙头美国GCA公司由于本土企业需求量减少以及技术落后，被迫退出市场，到1994年，“微影双雄”已经占据了80%的市场份额。
ASML成立之初也面临着资金短缺和技术落后的问题。半导体产业属于资金密集型产业，光刻机作为推动摩尔定律最关键的设备，研发新产品时更需要庞大的资金投入。ASML研发的第一款PAS 2000光刻机技术过时，未能贡献利润。1992年全球半导体产业滑坡，ASML资金链断裂，几近关门，幸亏菲利普及时出手援助才渡过难关。
表：ASML成立初期面临的困境
走出困境后的ASML开始了快速的发展，而同时尼康与佳能却在走向衰落，最终在浸没式光刻机的研发上，ASML对尼康和佳能做出了致命一击，奠定了自身光刻机龙头的地位。ASML能把稳住这一关键的历史因素，具有自身特质以及时代背景两大方面的原因。
内因：ASML极其重视研发，并对研发创新始终保持开放态度。光刻机是技术含量极高的设备，厂商每年需要投入巨额的资金用于研发。ASML每年的研发投入都在营业收入的15%左右，与净利润水平基本相当，远超尼康、佳能5%-6%的研发投入，即使在互联网泡沫破裂和金融危机期间，ASML依然保持极高的研发投入。
对于研发，ASML采取大胆的外包合作和开放式创新模式，公司将众多的光刻机核心设备外包给各细分设备顶尖供应商生产，如光学部件由德国卡尔蔡司生产，计量技术装备由美国的Hewlett-Packard 制造，光源由美国的Cymer 提供。外包模式降低了ASML 的研发成本，并与供应商建立起密切的利益合作关系。而且ASML 也与供应商及全球顶尖的科研机构共同研发，共享专利，并鼓励供应商在制造过程中提出改进意见，具有极高的效率和灵活性。
相对的，尼康与佳能采取“孤岛式研发”，仅与极少数厂商进行技术合作，对于产品也秉持“一颗螺丝钉的位置都不能改”的政策，导致其产品研发越来越跟不上ASML 的脚步，售后服务也收到广大客户诟病，最终在ArF 沉浸式光刻机和F2 光刻机的对决中一败涂地，丢掉自己的龙头地位。
图：1995-2016 年ASML 研发支出
图：ASML、Nicon 和Canon 研发占比
外因：ASML 乘上产业转移东风，把握住韩国与台湾市场。上世纪八十年代，美国对日本半导体产业的政策从最初的扶持转向抑制，1985 年《广场协议》使得日元大幅升值，日本半导体产品价格失去竞争力。1986 年、1991 年两次签订《美日半导体协议》，对日本产品进行最低价格限制，并要求日本提高国外半导体产品在国内市场所占的份额。日本半导体产业开始由盛转衰。
与此同时，韩国、台湾在政府和财团的支持下承接了半导体产业的转移，韩国的储存器产业开始崛起，台湾则出现了台积电这样的晶圆代工巨鳄。ASML 敏锐地抓住这一历史机遇，大力进入韩国、台湾市场，与各大半导体生产商保持良好地业务和合作关系。ASML 赖以登上龙头之位的浸没式光刻机产品就是与台积电共同研发的。
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