光刻机又称掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，是半导体产业中最关键设备。光刻工艺决定了半导体线路的线宽，同时也决定了芯片的性能和功耗，一般可以分为无掩模光刻机和有掩模光刻机。
从细分市场来看，市面上销售的光刻机主要为EUV光刻机、ArF lm光刻机、ArF Dry光刻机、KrF光刻机和i-line光刻机。从2019年这五类光刻机的销量情况来看，i-line光刻机的销量最高，为116台，其中Canon公司贡献了50%以上。
目前，全球光刻机市场的主要企业即ASML，尼康(Nikon)和佳能(Canon)三家，从市场份额分布来看，2019年三家企业的合计市场份额就占到了全球光刻机市场的90%以上。其中，ASML凭借技术领先优势，垄断了EUV光刻机，独占75%的市场份额，Nikon与Canon分别占据13%和6%的市场份额。
而从国内市场发展现状来看，我国光刻机技术长期落后于发达国家，在工业现代化进程中短板劣势凸显。不过，近几年在国家政策扶持以及一批龙头企业带领下，我国光刻机技术飞速发展，例如长春光机所的“极紫外光刻(EUVL)关键技术研究”项目顺利完成了验收前现场测试。但是在光刻机制造方面与世界头部企业相比仍有一定的差距，行业研发进度有待加快。
相关行业分析报告参考《2020年中国光刻机行业前景分析报告-产业竞争现状与未来商机分析》。
光刻机行业分类
数据来源：公开资料整理
从细分市场来看，市面上销售的光刻机主要为EUV光刻机、ArF lm光刻机、ArF Dry光刻机、KrF光刻机和i-line光刻机。从2019年这五类光刻机的销量情况来看，i-line光刻机的销量最高，为116台，其中Canon公司贡献了50%以上。
2019年光刻机头部企业销售数量情况
数据来源：企业公报
目前，全球光刻机市场的主要企业即ASML，尼康(Nikon)和佳能(Canon)三家，从市场份额分布来看，2019年三家企业的合计市场份额就占到了全球光刻机市场的90%以上。其中，ASML凭借技术领先优势，垄断了EUV光刻机，独占75%的市场份额，Nikon与Canon分别占据13%和6%的市场份额。
2019年全球光刻机市场竞争格局
数据来源：公开资料整理
而从国内市场发展现状来看，我国光刻机技术长期落后于发达国家，在工业现代化进程中短板劣势凸显。不过，近几年在国家政策扶持以及一批龙头企业带领下，我国光刻机技术飞速发展，例如长春光机所的“极紫外光刻(EUVL)关键技术研究”项目顺利完成了验收前现场测试。但是在光刻机制造方面与世界头部企业相比仍有一定的差距，行业研发进度有待加快。
我国光刻机相关领先企业技术进展情况
| 光刻机设备 |
领先企业 |
已具备技术(nm) |
| 光刻机 |
上海微电子 |
90-130nm |
| 光刻机工作台 |
华卓精科 |
65-130nm |
| 涂布显影 |
芯源微 |
45-130nm |
| 去胶/清洗 |
屹唐半导体 |
5-130nm |
数据来源：公开资料整理
光刻机行业政策扶持方向
数据来源：公开资料整理（WYD）
相关行业分析报告参考《2020年中国光刻机行业前景分析报告-产业竞争现状与未来商机分析》。
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