全球太阳电池专利分布

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       导读: 太阳电池领域全球专利申请中，日本申请人在该领域处于绝对优势地位，在申请量上已经基本处于垄断地位。夏普和三菱自1999年开始，专利申请量迅速增长，在近几年一直保持发展势头。

       全球太阳电池技术发展迅猛，专利申请的技术重点主要是薄膜太阳电池相关技术，同时染料敏化太阳电池相关技术也是近几年的研究热点。在专利技术申请方面，我国的技术方向与国外基本一致。技术分支较全面，主要集中在薄膜太阳电池相关技术方面。同时，在近年来备受关注的染料敏化太阳电池方面的研究也较活跃。其中北京行者公司、李毅(申请人)和南开大学的研究重点为薄膜太阳电池；彩虹集团公司、复旦大学、清华大学和中科院长春应用化学研究所在染料敏化太阳电池领域的研究较活跃；常州天合公司的研究则主要集中在晶体硅太阳电池相关技术；此外，中科院长春应用化学研究所对有机太阳电池的关注度较高。

       太阳电池领域全球专利申请中，日本申请人在该领域处于绝对优势地位，在申请量上已经基本处于垄断地位。夏普和三菱自1999年开始，专利申请量迅速增长，在近几年一直保持发展势头。各主要厂商分别侧重于不同技术领域，目前主要生产厂商都非常注重在薄膜太阳电池领域的技术开发，尤其是佳能、三洋和松下，基本上全部研发重心都放在薄膜太阳电池领域，夏普和三菱的发展都为全面，在晶体硅太阳电池、薄膜太阳电池、染料敏化太阳电池以及有机聚合物太阳电池 4 个技术领域均有一定数量的专利申请，其中夏普在晶体硅太阳电池方面的实力最强，而三菱则在染料敏化太阳电池和有机聚合物太阳电池领域略强于夏普。
       太阳电池领域的重要专利也主要集中于日本，如佳能、三洋、夏普等公司。其中晶体硅太阳电池和薄膜太阳电池技术的专利申请起源都较早，因此基础性的专利都已经超过保护期限，重要专利均为改进型专利技术；染料敏化太阳电池是太阳电池领域中较新的一个研究分支，是目前全球专利申请的技术热点。其中重要的专利包括佳能的叠层结构US6180870B1、US6383576B1、衬底/电极CN1096713C、US5500055A 以及成膜方法/设备EP0828301B1等；夏普的衬底/电极CN100472817C、钝化膜/抗反射EP1816683B1、染料敏化太阳电池JP1063802B2等；三菱的叠层结构CN100435357C；松下的叠层结构 US6441301B1及染料敏化太阳电池 US7256147B2。

       国内申请人分别具有不同的技术重点。在晶体硅太阳电池技术方面，无锡尚德的发明专利申请主要包括晶体硅太阳电池电极制绒和镀减反射膜工艺；常州天合的专利申请涵盖晶体硅太阳电池的衬底、电极的设计等；阿特斯的专利申请主要涉及太阳电池的抗反射及钝化工艺。在薄膜太阳电池技术方面，叠层结构方面专利申请较活跃的主要申请人有南开大学、北京行者以及李毅，其中南开大学和李毅在薄膜太阳电池方面的专利技术较全面，涵盖了衬底、电极以及叠层结构的设计，还有制造电池的方法和设备，北京行者的专利申请则主要集中在电池的电极和叠层结构方面。